考夫曼离子源 RFICP 40阅读数: 1838
KRI 考夫曼离子源 RFICP 40
博盈彩票代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用.标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
离子源 RFICP 40 特性:
1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性
KRI 考夫曼离子源 RFICP 40 技术参数：
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型号 |
RFICP 40 / RFICP 40FN |
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供电 |
RF 射频感应耦合 |
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- 阴极灯丝 |
- |
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- 射频功率 |
0.6 KW |
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电子束 |
博盈彩票投注OptiBeam™ |
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- 栅极 |
专用 |
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-栅极直径 |
4 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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电源控制 |
RFICP 1510-2-06-LFNA |
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配置 |
- |
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- 阴极中和器 |
LFN1000 or MHC1000 or RFN |
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- 安装 |
移动或快速法兰 |
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- 高度 |
5.0' |
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- 直径 |
5.3' |
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- 离子束 |
聚焦 |
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-加工材料 |
金属 |
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-工艺气体 |
惰性 |
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博盈彩票投注 -安装距离 |
6-18” |
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- 自动控制 |
控制4种气体 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
KRI 考夫曼离子源 RFICP 40 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE